中微公司发行价格确定为29.01元/股
中证网讯（记者 孙翔峰）7月9日，中微公司（688012）发布发行公告，公司发行价格确定为29.01元/股，按照2018年度扣非前归母净利润计算，对应发行后市盈率为170.75倍，处于较高水平。
中微公司目前处在高速成长阶段，受益于公司新品技术储备丰富、国内进口替代需求强烈、A股市场标的稀缺性。业内人士分析，综合来看，高市盈率并不意味中微公司的估值水平偏高。高技术、高投入、高风险，是半导体设备行业的典型特征，在半导体装备领域，如果进入不了全球前几名行列，面对技术的快速迭代，公司也就无法形成长期的市场竞争力、持续的研发能力。而公司高研发投入的模式，按照PE（市盈率）估值显然不合理，而EV/EBITDA(企业价值/息税折旧前盈利)首先适合于阶段比较成熟的企业，再者中微公司是一个轻资产公司，折旧等并不多，现阶段采用PS（市销率）进行估值更能反映公司的客观价值。按照前文估值区间预测，公司对应2018年营业收入的PS区间为7.93-10.37倍，与目前A股可比上市公司接近。
半导体微观加工的精雕细刻如同在纳米维度上建造高楼大厦。从最初的电子管计算机到如今14nm、7nm器件，微观器件的基本单元面积缩小了一万亿倍,而且在如此小的芯片（集成电路）面积上，完成最终制造需要成百上千个步骤工艺，其中等离子体刻蚀就需要几十到上百个步骤，难度可想而知。
半导体产业素来有“一代设备、一代工艺和一代产品”行业特点，半导体设备占先进集成电路大规模生产线的投资的75%以上。半导体产业链条比较长，每一个环节都具有较高的技术含量。中微公司所处在半导体产业链的中游位置，即为开发加工微观器件的大型真空工艺设备。包括等离子体刻蚀设备和薄膜沉积设备。而等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备与光刻机是制造集成电路、LED芯片等微观器件的最关键设备。刻蚀设备、光刻设备、薄膜沉积设备是集成电路前道生产工艺中最重要的三类设备。
在行业高速发展的大背景下，中微公司营业收入保持高速增长，从2016年的6.10亿元增长至2018年的16.39亿元，成长性突出。公司盈利能力持续增强，与此同时，中微公司的盈利能力不断增强，报告期内营业利润和净利润均大幅增加，2018年分别实现5.82亿元及9083.68万元。公司产品具有高附加值，人均销售额快速提升，从2016年的约120万元增长至2018年的约250万元。
同时，公司预计2019年1-6月实现营业收入7.2-8.6亿元，同比增长55%-85%；预计实现扣除非经常性损益后归属于母公司股东的净利润为2200-2600万元，较2018年1-6月同比数据的-4,801.28万元均实现由负转正，持续高速增长的公司业绩对公司高估值形成有力支撑。
